Lace Lithography
Microelectrónica
La SETT formalizó una inversión de un millón de euros en la empresa Lace Lithography, especializada en el desarrollo de sistemas de litografía para la fabricación de chips con una tecnología innovadora basada en el uso de átomos de helio metaestable.
Lace comenzará a comercializar a partir de 2029 nuevas máquinas de litografía, que son las que graban los patrones de circuitos en silicio que usan los microchips.
- La tecnología actual de fotolitografía utiliza luz ultravioleta (UV) para grabar patrones microscópicos sobre obleas de silicio, base para la fabricación de microchips. Este sistema, que está concentrado en muy pocos actores a nivel empresarial, presenta limitaciones a medio plazo, al no permitir reducir el tamaño de los chips y aumentar su complejidad.
- Lace Lithography, nacida en 2023 y con sede en Bergen (Noruega) y Barcelona, propone un nuevo modelo de grabado de obleas a partir de átomos y no de luz, desbloqueando la vía tradicional de fabricación de chips.
- En lugar de fotones, Lace recurre a un haz de átomos de helio metaestable para crear patrones sobre el silicio. Los átomos no tienen límite de difracción como los fotones, lo que significa que esta alternativa puede lograr resoluciones 10 veces menores que los mejores sistemas actuales, lo que representa microchips más pequeños, con menor coste, energía y complejidad en la fabricación.
- La SETT realiza esta operación mediante la facilidad PERTE Chip, con fondos procedentes del Plan de Recuperación, Transformación y Resilencia (Fondos Next Generation de la Unión Europea), cuyo objetivo es impulsar el sector de la microelectrónica y los semiconductores en España.
